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      鍍鉻加工中的催化劑

      點擊次數:   更新時間:17/03/16 17:58:03     來源:www.76cats.com關閉分    享:
        鍍鉻加工的常用催化劑有硫酸根,氟化物、氟硅酸鹽、氟硼酸鹽以及這些陰離子的混合物。當催化劑含量過低時,得不到鍍層或得到的鍍層很少,主要是棕色氧化物。若催化劑過量時,會造成覆蓋能力差、電流效率下降,并可能導致局部或全部沒有鍍層。目前應用較廣泛的催化劑為硫酸。
        硫酸的含量取決于鉻酐與硫酸的比值,一般控制在Cr03:So4=(80~100):1,最佳值為100:1。當So42-含量過高時,對膠體膜的溶解作用強,基體露出的面積大,真實電流密度小,陰極極化小,得到的鍍層不均勻,有時發花,特別是凹處還可能露出基體金屬。當生產上出現上述問題時,應根據化學分析的結果,在鍍液中添加適量的碳酸鋇,然后過濾去除生成的硫酸鋇沉淀即可。當So42-含量過低時,鍍層發灰粗糙,光澤性差。因為So42-含量太低,陰極表面上只有很少部位的膜被溶解,即成膜的速度大于溶解的速度,鉻的析出受阻或在局部地區放電長大,所以得到的鍍層粗糙。此時向鍍液中加入適量的硫酸即可。用含氟的陰離子(F一、SiF62-、BF4-)為催化劑時,其濃度為鉻酐含量的1.5%~4%,這類鍍液的優點是:鍍液的陰極電流效率高,鍍層硬度大,使用的電流密度較低,不僅適用于掛鍍,也適用于滾鍍。
        我國使用較多的是氟硅酸根離子,它兼有活化鍍層表面的作用,在電流中斷或二次鍍鉻加工時,仍能得到光亮鍍層,也能用于鍍鉻加工。一般加入H2SiF4或Na2SiF6(或K2SiF6)作為SiF62-的主要來源。含siF2一離子的鍍液,隨溫度升高,其工作范圍較So42-離子的鍍液寬。該鍍液的缺點是對工件、陽極、鍍槽的腐蝕性大,維護要求高,所以不可能完全代替含有So42-的鍍液。目前不少廠家將So42-和siF62-混合使用,效果較好。

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